Fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)
- Importo a base di gara
- 680.000 €
- Scadenza offerte
- 01/10/2026
- Provincia
- Genova
- Pubblicazione
- 03/08/2026
- rettificato il 16/09/2026
Dettaglio del lotto
- Natura
- Forniture
- CPV
- 38970000 Ricerca, sperimentazione e simulatori tecnico-scientifici
- Criterio di aggiudicazione
- OEPVSi vince sul progetto tecnico e sull'offerta economica insieme: serve un'offerta tecnica, valutata a punteggio da una commissione.
- Norme applicabili
- Sopra la soglia europeaValutazione di congruità dell'offerta
Stazione appaltante
- Provincia
- Genova
- Stazione appaltante
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Documenti & riferimenti
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